中企买到最新光刻机,下一步要做什么?
来源:海疆综合 2018/05/22 17:19:39 作者:蛋炒饭
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导读: 就拿中芯国际为例,在2015年时,中芯国际只能买到ASML生产的32nm工艺的光刻机,而当时ASML出售给其他国际半导体巨头的光刻机已经达到10nm工艺。

近日,长江存储从荷兰ASML(阿斯曼)购买的光刻机运抵武汉。长江存储的首台光刻机,售价达7200万美元,约合人民币4.6亿元,采用193nm沉浸式设计,可生产14-20nm工艺的3D NAND闪存晶圆。这似乎从侧面透露了长江存储的闪存芯片工艺技术已取得极大进展。

此前,中芯国际 表示已经成功订购ASML最先进的EUV极紫外光刻机,价值1.2亿美元,预计将于2019年初交货。要知道,目前半导体业内专家普遍认为,只有EUV极紫外光刻机才能使半导体芯片进入7nm,甚至5nm时代。

以往,中国半导体企业只能购买使用落后两三代工艺的光刻机。最主要原因有两点。

首先,中国半导体工艺之前仍然过于落后。当半导体行业主流工艺已经进入14nm时,向着10nm前进时,大多数中国半导体行业还在45nm、32nm工艺上徘徊,最先进的工艺则是28nm,不过只有少数几家半导体芯片企业稳定量产28nm芯片,中芯国际就是其中一家。而EUV极紫外光刻机主要针对7nm工艺的半导体芯片,7nm以上的工艺不需要EUV极紫外光刻机。因此,从工艺需求上,国内半导体企业还没有使用最先进光刻机的动力。

其次,因为西方《瓦森纳协议》的限制以及美国的干预。从芯片设计、生产等多个领域,中国都不能获取到国外的最新科技。就拿中芯国际为例,在2015年时,中芯国际只能买到ASML生产的32nm工艺的光刻机,而当时ASML出售给其他国际半导体巨头的光刻机已经达到10nm工艺。

不过,随着长江存储和中芯国际先后成功购买ASML先进的光刻机,则表示我国半导体行业已经突破突破现有工艺限制,正往更先进的工艺前进。同时,随着国家“十二.五”对半导体行业扶持计划的全面启动,与微电子直接相关的01、02、03专项研究工作全面铺开。最近更是传出“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项“极紫外光刻关键技术研究”项目顺利通过验收的好消息。而极紫外光正是ASML极紫外光刻机的不可缺少的技术之一。

正是因为中国在多种技术上取得突破,美国才会“松口”。其实西方国家的套路一直都是这样,当我国突破了技术封锁,拉近技术差距,像美国这样的资本主义就会封锁政策上有所松动,进而转为合作。中国在极紫外光上取得突破,在光刻机方面,ASML公司也就不再依据《瓦森纳协议》对中国半导体企业进行限制。

2017年9月,ASML中国区总裁金泳璇在接受媒体采访时正式“澄清”,ASML对大陆晶圆厂与国际客户一视同仁,只要客户下单,EUV要进口到中国完全没有任何问题。在交期方面,所有客户也都完全一致,从下单到正式交货,均为21个月。这一份澄清可谓是“姗姗来迟”。

但不管怎么说,在国家政策的支持下,中国半导体企业正在“卯足劲往前冲”,原先一些外在限制正在逐渐被攻破。但是,目前摆在中国半导体行业面前的“大山”仍有不少,如IC设计、IC制造等。中国半导体企业能买到最先进的光刻机当然可喜可贺,但绝不能被小阶段的胜利蒙蔽了眼睛。最先进的光刻机可以比作为神兵,只有武艺高超的人才能发挥神兵全部的为例。

“道阻且长,行则将至”,为由所有半导体产业相关技术人员一起努力,才能打破美国技术封锁,突破《瓦森纳协议》的限制,实现“中国芯”崛起。

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